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专利摘要

本发明公开了一种异质材料结构化多层薄膜吸波器及其制造方法,所述结构化多层薄膜包括硅基底,Ag薄膜、SiO

专利状态

基础信息

专利号
CN201911345072.9
申请日
2019-12-24
公开日
2020-04-10
公开号
CN110994189A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

刘卫国 葛少博 周顺 杨鹏飞 李世杰 阳志强 黄岳田

申请人

西安工业大学

申请人地址

710032 陕西省西安市未央区学府中路2号

专利摘要

本发明公开了一种异质材料结构化多层薄膜吸波器及其制造方法,所述结构化多层薄膜包括硅基底,Ag薄膜、SiO

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