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专利摘要

本发明提供了一种在(001)晶面择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列的方法。
该方法包括以下步骤:1)制备Cr掺杂二氧化钛薄膜作为籽晶层;2)将步骤1)制得的Cr掺杂二氧化钛薄膜籽晶层置于生长液中,经水热生长,得到所述择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列。
本发明的方法成本低廉、工艺要求简单、重复性好、可大规模制造,所制备的二氧化钛纳米线阵列在(001)方向具有良好的择优取向生长和紫外受激发光特性。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910015675.6
申请日
2019-01-08
公开日
2019-04-09
公开号
CN109594067A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

汪洋 杨永兴 楼倩 杨文静

申请人

工业和信息化部电子第五研究所华东分所

申请人地址

215011 江苏省苏州市高新区珠江路117号

专利摘要

本发明提供了一种在(001)晶面择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列的方法。
该方法包括以下步骤:1)制备Cr掺杂二氧化钛薄膜作为籽晶层;2)将步骤1)制得的Cr掺杂二氧化钛薄膜籽晶层置于生长液中,经水热生长,得到所述择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列。
本发明的方法成本低廉、工艺要求简单、重复性好、可大规模制造,所制备的二氧化钛纳米线阵列在(001)方向具有良好的择优取向生长和紫外受激发光特性。

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