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专利名称
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专利号
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申请日期
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专利状态
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26 | 具有增强缺陷抑制的抛光组合物和抛光衬底方法 | CN201910191269.5 | 2019-03-13 | 审查中-实审 |
27 | 一种光有源器件半导体衬底的抛光工艺 | CN201811457051.1 | 2018-11-30 | 有效专利 |
28 | 晶圆键合方法及异质衬底制备方法 | CN201710076760.4 | 2017-02-13 | 审查中-公开 |
29 | 在非导电衬底上进行电子束或离子束聚焦刻蚀及显微成像的方法 | CN201910208280.8 | 2019-03-19 | 有效专利 |
30 | 一种在透光衬底上制备微纳米结构图案的方法 | CN201711467340.5 | 2017-12-29 | 审查中-公开 |
31 | 在柔性衬底上构筑表面粗糙化的PS球阵列的方法 | CN201811622327.7 | 2018-12-28 | 审查中-实审 |
32 | 在衬底中的孔形成 | CN201880060056.2 | 2018-08-08 | 有效专利 |
33 | 电致变色装置到玻璃衬底的层合 | CN201611217082.0 | 2011-03-04 | 有效专利 |
34 | 用于切割在半导体衬底上形成的导线的方法和装置 | CN200410031447.1 | 2004-03-31 | 授权 |