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一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统的制作方法

时间:2022-02-03 阅读: 作者:专利查询

一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统的制作方法

1.本发明涉及一种碳化硅单晶炉的机械系统,具体涉及一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统。


背景技术:

2.碳化硅(sic)是继第一代半导体材料硅和第二带半导体材料砷化镓(gaas)后发展起来的第三代半导体材料。由于碳化硅(sic)具有高热导率、高载流子饱和浓度、化学性能稳定、高硬度、抗磨损等优异特点,被广泛应用于航空、航天探测、核能开发、5g基建等领域,具有不可替代性的优势,并且随着碳化硅(sic)材料和器件工艺的不断完善,部分si领域被碳化硅(sic)来替代也是是指日可待的。
3.目前碳化硅生长方法大多采用感应加热方式,而感应加热方式常因装备故障率高、晶体生长稳定性差,功率波动大等因素,导致晶体生长缺陷率增加,除此之外,现有的碳化硅单晶生长的机械系统存在自动化程度较低,整体结构设计不合理,导致晶体生长过程中控制精度低,热场温度波动大,对大尺寸碳化硅的生长带来了极大的约束和限制,因此设计一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统显得十分必要。


技术实现要素:

4.本发明的目的在于提供一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,该机械系统解决了目前大尺寸碳化硅单晶生长难度较大,且成品率较低的问题,保证了碳化硅单晶生长过程中的均匀性及稳定性。
5.本发明的目的是这样实现的,该结构整体由底座、机械旋转腔室、支柱、电机、炉体、循环水系统、大炉盖、小炉盖、电极、大炉盖驱动架、小炉盖驱动架、驱动电机、测温装置、真空检测装置、进气孔及出气孔组成。
6.本发明还有这样一些特征:
7.1、所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的底座、炉体、支柱、大炉盖及小炉盖均为不锈钢材质。
8.2、所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的电机安置于底座内部,并与支柱连接,可控制支柱进行360
°
旋转。
9.3、所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的炉体夹层处设有循环水系统,可有效控制炉内的温度梯度。
10.4、所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的电极呈圆环形,为石墨材质。
11.本发明有益效果有:
12.1、本发明一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,自动化程度较高,通过进气孔及出气孔的设计,可实现炉体内部自动进气及出气的流量控制,
13.2、本发明一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,该系统通过电机控制可实
现底部自由旋转,进而带动炉内热场结构的自由转动,保证碳化硅晶体生长的均匀性及一致性,提高晶体质量。
14.3、本发明一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,该机械系统的整体制造成本较低,利于大规模推广使用,同时通过内部循环水的设计,可有效保证炉内生长环境处于合理的温度梯度,更加利于生长出大尺寸、高质量的碳化硅单晶。
15.4、本发明一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,通过驱动电机对大炉盖驱动架及小炉盖驱动架的控制,来实现对大炉盖及小炉盖的自动安装,极大的减轻了工作人员的工作强度,节省了大量的人力物力,降低了碳化硅单晶的整体生长成本。
附图说明
16.图1是本发明的结构示意图。
17.图2是本发明的电机结构示意图。
18.如图所示:1、测温装置,2、阀门,3、螺栓,4、大炉盖驱动架,5循环水系统,6、上部保温腔室,7、底部保温腔室,8、驱动电机,9、底座,10、小炉盖,11、大炉盖,12、真空检测装置,13、进气孔,14、小炉盖驱动架,15、支柱,16、出气孔,17、机械旋转腔室,18、电机,19、电极。
具体实施方式
19.下面结合附图对本发明做进一步的详细说明。
20.结合所有附图,一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统。大炉盖驱动架4与小炉盖驱动架14分别安置于底座9左右两端的上表面,顶部分别与大炉盖11及小炉盖10连接,炉体由上部保温腔室6及底部保温腔室7组成,整体位于大炉盖驱动架与小炉盖驱动架之间,夹层处设有循环水系统5,顶端依次安装有大炉盖及小炉盖,底端安置于机械旋转腔室17上,圆环形电极19处于炉体内部,并安置于大炉盖的下表面,支柱15底端安置于底座内部,顶端处于炉体底部保温腔室内,表面放置碳化硅热场结构,测温装置1及真空检测装置12分别位于小炉盖的左右两侧,进气孔13及出气孔16分别位于真空检测装置的右端及炉体底部右侧,底端通向炉体内部,顶端设有阀门2。使用时,将碳化硅热场放置于支柱上,进而驱动电机8控制大炉盖驱动架带动大炉盖移动至炉体上方,同时通过大炉盖驱动架的缓慢下移使大炉盖稳固于炉体顶部,并通过螺栓3进行紧固,再次小炉盖驱动架带动小炉盖紧固于大炉盖上,使炉体处于封闭空间,同时抽取炉内真空,且循环水系统延炉体内部进行循环性流动,进一步的电机18带动支柱进行旋转,进而带动支柱上的碳化硅热场进行匀速转动,同时通过测温装置、真空检测装置监测炉内的温度变化情况及真空状态,以及通过进气口及出气口监测炉内气体的流量控制情况,保证碳化硅生长过程当中的均匀性,进而生长出大尺寸、高质量的碳化硅晶体。
21.以上对本发明及其实施方式进行了描述,这种描述没有限制性,附图中所示的也只是本发明的实施方式之一,实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示,在不脱离本发明创造宗旨的情况下,不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例,均应属于本发明的保护范围。


技术特征:
1.一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,它包括底座(9)、机械旋转腔室(17)、支柱(15)、电机(18)、炉体、循环水系统(5)、大炉盖(11)、小炉盖(10)、电极(19)、大炉盖驱动架(4)、小炉盖驱动架(14)、驱动电机(8)、测温装置(1)、真空检测装置(12)、进气孔(13)及出气孔(16)。其特征在于底座(9)中心设有凹槽,机械旋转腔室(17)嵌入于底座(9)的凹槽内,支柱(15)为圆柱体,底端安置于底座(9)内部,顶端处于炉体底部,炉体夹层处设有循环水系统(5),底部固定于机械旋转腔室(17)上,大炉盖(11)呈圆形,中心为镂空形态,下表面通过螺栓(3)固定于炉体的顶端,上表面与小炉盖(10)连接,电极(19)呈位于炉体内部,并安置于大炉盖(11)的下表面,大炉盖驱动架(4)及小炉盖驱动架(14)位于炉体的左右两侧,底端通过驱动电机(8)安置于底座(9)上,顶端分别与大炉盖(11)及小炉盖(10)连接,测温装置(1)及真空检测装置(12)分别位于小炉盖(10)的左右两侧,进气孔(13)与出气孔(16)分别安置于大炉盖(11)右侧上表面及炉体底端右侧,且底部均通向炉体的内部,顶部设有阀门(2)。2.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的底座(9)为长方体,长为1000-1500mm,宽为900-1200mm,高为200-400mm,中心凹槽深度为150-300mm。3.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的机械旋转腔室(17)嵌入于底座(9)的凹槽内,长为200-500mm,宽为200-400mm,高为150-230mm,内部设有支柱(15),支柱高度为200-600mm,表面放置碳化硅热场结构。4.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的炉体整体由上部保温腔室(6)及底部保温腔室(7)组成,上部保温腔室(6)高度为750-950mm,底部保温腔室(7)高度为100-300mm,直径为700-900mm。5.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的大炉盖(11)与小炉盖(10)依次通过螺栓(3)安置于炉体的顶部,大炉盖(11)直径为720-920mm,小炉盖(10)直径为240-400mm。6.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的电极(19)呈圆环形,内径为150-350mm,外径为200-400mm,厚度为30-60mm,位于炉体内部,并安置于大炉盖(11)的下表面,加热时功率为10-35kw,电压10-30v,电流1300-1800an。7.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的大炉盖驱动架(4)、小炉盖驱动架(14)分别通过驱动电机(8)安置于底座(9)左右两端的上表面,可进行上下及左右伸缩,上下伸缩行程为900-1500mm,左右伸缩行程为400-1000mm,顶端分别与大炉盖(11)及小炉盖(10)连接。8.根据权利要求1所述的一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统,其特征在于所述的测温装置(1)及真空检测装置(12)分别位于小炉盖(10)的左右两侧,进气孔(13)与出气孔(16)分别安置于大炉盖(11)右侧上表面及炉体底端右侧,直径为6-20mm,底端通向炉体的内部,顶端设有阀门(2)。

技术总结
本发明涉及一种单晶炉的机械系统,具体涉及一种电阻式6英寸碳化硅单晶炉的机械系统。该系统包括底座、机械旋转腔室、支柱、电机、炉体、循环水系统、大炉盖、小炉盖、电极、大炉盖驱动架、小炉盖驱动架、驱动电机、测温装置、真空检测装置、进气孔及出气孔。其特征在于底座为长方体,机械旋转腔室嵌入底座内,支柱为圆柱体,安置于底座内部,炉体位于底座上方,夹层处设有循环水系统,大炉盖呈圆形,位于炉体上方,电极呈圆环形,位于炉体内部,大炉盖驱动架及小炉盖驱动架位于炉体两侧,通过驱动电机安置于底座上,测温装置及真空检测装置位于小炉盖两侧,进气孔与出气孔安置于大炉盖及炉体右侧。该机械系统可有效提高晶体质量,降低生长成本。成本。成本。


技术研发人员:ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者:哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司
技术研发日:2021.10.25
技术公布日:2022/1/28