1.本实用新型涉及瓷砖釉面加工设备，尤其涉及一种瓷砖釉面淋釉装置。
背景技术：
2.在瓷砖制作过程中，首先是制作瓷片本体或陶瓷坯体，然后在瓷片本体或陶瓷坯体表面施以釉浆，这样就会在瓷片本体或陶瓷坯体表面形成以干燥釉浆为洁净、光滑、平整的表面。瓷砖表面施釉一般采用淋釉法，淋釉施釉能够快速得到均匀釉层表面，淋釉法对釉浆的要求较高，釉浆制备后可能含有气泡，如果有气泡就会导致釉层不光滑，从而废品率较高；淋釉施釉可以采用淋釉罩或淋釉装置来进行施釉作业，现有淋釉装置在施釉时，其釉浆压力不均匀，釉浆流量流速也无法得到很好的控制，导致其淋釉施釉质量较差，瓷砖表面不光滑或平整度较差或含有气泡而导致坑洼不平，废品率比较高，这是现有淋釉装置很难解决的技术难点。
技术实现要素：
3.针对现有技术存在的不足之处，本实用新型的目的在于提供一种瓷砖釉面淋釉装置，通过输釉斗将釉浆输入到除泡网筒内部，通过除泡网筒对所输入的釉浆进行除气泡处理，然后经过内钟罩、外钟罩双重溢流控制，可以得到流量流速可控、压力均衡、无气泡的釉浆，便于对位于淋釉罩体下方的瓷片本体进行高质量、高效率施釉作业，提高了施釉质量及工作效率。
4.本实用新型的目的通过下述技术方案实现：
5.一种瓷砖釉面淋釉装置，包括支撑底座、淋釉罩体和输釉斗，所述支撑底座上设有罩体支撑竖架，所述罩体支撑竖架上设有罩体支撑托架，所述淋釉罩体安装于罩体支撑托架上；所述支撑底座上设有输釉斗支撑竖架，所述输釉斗支撑竖架具有支撑横梁，所述输釉斗安装于支撑横梁上，所述淋釉罩体顶部中心安装设有分釉器，所述输釉斗底部具有与分釉器相对应的输釉嘴。
6.为了更好地实现本实用新型，所述罩体支撑竖架包括四个支撑竖杆，其中两个支撑竖杆固定设于支撑底座左侧，另外两个支撑竖杆固定设于支撑底座右侧，所述罩体支撑托架包括两个支撑托臂，其中一个支撑托臂两端分别通过升降抱箍升降连接于左右两个支撑竖杆上，另一个支撑托臂两端分别通过升降抱箍升降连接于左右两个支撑竖杆上。
7.本实用新型提供一种优选的分釉器结构技术方案如下：所述分釉器包括定位板、内钟罩和外钟罩，所述定位板对应安装于内钟罩的罩腔底部，所述定位板中部竖向安装设有除泡网筒；所述内钟罩对应装配于外钟罩的罩腔中，所述内钟罩顶部端面为内溢流顶面，所述外钟罩顶部端面为外溢流顶面，所述外溢流顶面的水平高度高于内溢流顶面的水平高度；所述外钟罩内壁与内钟罩外壁之间为外溢流钟腔，所述内钟罩内壁与除泡网筒的外筒壁之间为内溢流钟腔；所述输釉嘴与除泡网筒的筒腔相对应。
8.优选地，所述淋釉罩体中部设有第一定位环和位于第一定位环外部的第二定位
环，所述第一定位环内具有第一定位环孔，所述定位板配合装配于第一定位环的第一定位环孔中；所述第一定位环与第二定位环之间具有第二定位环孔，所述内钟罩底部配合装配于第一定位环外侧，所述外钟罩底部配合装配于第二定位环外侧。
9.优选地，所述淋釉罩体整体呈向上凸起的圆弧球面形状，所述淋釉边缘呈斜面结构；所述淋釉罩体底部对应设有接釉槽，所述接釉槽底部设有支架。
10.优选地，所述除泡网筒呈网状结构，除泡网筒上均匀分布有若干除泡网孔；所述除泡网筒顶部的水平高度低于内溢流顶面的水平高度。
11.优选地，所述内钟罩呈罩体形状，所述内钟罩的顶部口径小于底部口径，所述内钟罩从顶部到底部呈斜面平滑过渡。
12.优选地，所述外钟罩呈罩体形状，所述外钟罩的顶部口径小于底部口径，所述外钟罩从顶部到底部呈球面平滑过渡。
13.优选地，所述外钟罩顶部套装有阻流顶环；所述阻流顶环搭接或卡接安装于外钟罩顶部，所述阻流顶环覆盖外钟罩顶部一半区域，所述淋釉罩体具有淋釉边缘，所述淋釉边缘与外钟罩未覆盖阻流顶环区域相对应。
14.优选地，所述支撑横梁数量为两个，所述输釉斗顶部固定于两个支撑横梁上，所述输釉斗支撑竖架升降套装有升降筒，两个支撑横梁端部固定于升降筒上，所述输釉嘴上设有输釉阀。
15.本实用新型较现有技术相比，具有以下优点及有益效果：
16.(1)本实用新型通过输釉斗将釉浆输入到除泡网筒内部，通过除泡网筒对所输入的釉浆进行除气泡处理，然后经过内钟罩、外钟罩双重溢流控制，可以得到流量流速可控、压力均衡、无气泡的釉浆，便于对位于淋釉罩体下方的瓷片本体进行高质量、高效率施釉作业，提高了施釉质量及工作效率。
17.(2)本实用新型在外钟罩顶部覆盖设有阻流顶环，可以定向控制外钟罩所溢流出釉浆覆盖淋釉罩体上的面积区域，并顺利通过淋釉边缘进行淋釉、施釉作业，淋釉罩体可以朝向淋釉边缘倾斜调节布设，便于提升釉浆流动，也可以控制釉浆的流速。
附图说明
18.图1为本实用新型的结构示意图；
19.图2为淋釉罩体与分釉器组合安装后的结构示意图；
20.图3为分釉器装配后的结构示意图；
21.图4为淋釉罩体上第一定位环、第二定位环的布设示意图；
22.图5为淋釉罩体上配合安装定位板、除泡网筒后的结构示意图；
23.图6为定位板、除泡网筒、内钟罩组合安装后的结构示意图；
24.图7为定位板、除泡网筒、内钟罩、外钟罩组合安装后的结构示意图。
25.其中，附图中的附图标记所对应的名称为：
26.1－支撑底座,2－罩体支撑竖架,3－罩体支撑托架,31－升降抱箍,4－输釉斗支撑竖架,41－支撑横梁,5－淋釉罩体，51－淋釉边缘，52－第一定位环,521－第一定位环孔,53－第二定位环,531－第二定位环孔,6－分釉器,61－定位板,62－除泡网筒,63－内钟罩，631－内溢流顶面,64－外钟罩，641－外溢流顶面,65－内溢流钟腔,66－外溢流钟
腔,67－阻流顶环,7－输釉斗,71－输釉嘴,711－输釉阀,8－接釉槽,9－支架。
具体实施方式
27.下面结合实施例对本实用新型作进一步地详细说明：
28.实施例
29.如图1～图7所示，一种瓷砖釉面淋釉装置，包括支撑底座1、淋釉罩体5和输釉斗7(本实施例的支撑底座1可以视具体使用情况而定，比如直接安装于车间的地面或墙面等上面，那么支撑底座1就为地面或墙面等，或者安装于瓷片本体输送线上，那么支撑底座1就对应为瓷片本体输送线所对应的安装部位)，支撑底座1上设有罩体支撑竖架2，罩体支撑竖架2上设有罩体支撑托架3，淋釉罩体5安装于罩体支撑托架3上。支撑底座1上设有输釉斗支撑竖架4，输釉斗支撑竖架4具有支撑横梁41，输釉斗7安装于支撑横梁41上，淋釉罩体5顶部中心安装设有分釉器6，输釉斗7底部具有与分釉器6相对应的输釉嘴71。
30.如图1所示，罩体支撑竖架2包括四个支撑竖杆，其中两个支撑竖杆固定设于支撑底座1左侧(图1左侧)，另外两个支撑竖杆固定设于支撑底座1右侧(图1右侧)，罩体支撑托架3包括两个支撑托臂，其中一个支撑托臂两端分别通过升降抱箍31升降连接于左右两个支撑竖杆上，另一个支撑托臂两端分别通过升降抱箍31升降连接于左右两个支撑竖杆上。使用时，可以调节罩体支撑托架3的两个支撑托臂高度，以实现淋釉罩体5的高度调节，淋釉罩体5可采用螺钉与支撑竖杆可拆卸式固定(螺钉穿过支撑竖杆并与淋釉罩体5连接固定，螺钉不穿过淋釉罩体5，不影响淋釉罩体5的表面)。
31.如图3所示，分釉器6包括定位板61、内钟罩63和外钟罩64，定位板61对应安装于内钟罩63的罩腔底部，定位板61中部竖向安装设有除泡网筒62。内钟罩63对应装配于外钟罩64的罩腔中，内钟罩63顶部端面为内溢流顶面631，外钟罩64顶部端面为外溢流顶面641，外溢流顶面641的水平高度高于内溢流顶面631的水平高度。外钟罩64内壁与内钟罩63外壁之间为外溢流钟腔66，内钟罩63内壁与除泡网筒62的外筒壁之间为内溢流钟腔65。输釉嘴71与除泡网筒62的筒腔相对应。
32.淋釉罩体5中部设有第一定位环52和位于第一定位环52外部的第二定位环53(如图4所示，第一定位环52、第二定位环53均为圆环凸棱结构，两者同圆心)，第一定位环52内具有第一定位环孔521，定位板61配合装配于第一定位环52的第一定位环孔521中(如图5所示，定位板61正好定位安装于第一定位环孔521中)。第一定位环52与第二定位环53之间具有第二定位环孔531，内钟罩63底部配合装配于第一定位环52外侧(本实施例内钟罩6的底部罩口内壁与第一定位环52外侧贴合定位)，外钟罩64底部配合装配于第二定位环53外侧(本实施例外钟罩64的底部罩口内壁与第二定位环53外侧贴合定位)。
33.本实用新型优选的淋釉罩体5整体呈向上凸起的圆弧球面形状，淋釉边缘51呈斜面结构。淋釉罩体5底部对应设有接釉槽8，接釉槽8底部设有支架9(本实施例的支架9可以视具体使用情况而定，比如接釉槽8直接安装于车间的墙面等上面，那么支架9就为墙面等，或者安装于瓷片本体输送线上，那么支架9就对应为瓷片本体输送线所对应的安装部位，优选地，接釉槽8直接安装于瓷片本体输送线上，具体为接釉槽8安装于瓷片本体输送线的瓷片本体承重线面与回线面之间)；使用时，瓷片本体或陶瓷坯体在输送线作用下输送至淋釉罩体5底部，淋釉罩体5上的釉浆经过淋釉边缘51在瓷片本体表面进行淋釉作业，淋釉过程
中，瓷片本体在输送线作用下继续运输作业，进而实现整个瓷片本体表面釉层加工作业，多余的釉浆会掉落到接釉槽8中，便于回收利用。
34.如图3所示，除泡网筒62呈网状结构，除泡网筒62上均匀分布有若干除泡网孔；除泡网筒62可以除去釉浆中的气泡，提升釉浆的施釉质量。除泡网筒62顶部的水平高度低于内溢流顶面631的水平高度。
35.内钟罩63呈罩体形状，内钟罩63的顶部口径小于底部口径，内钟罩63从顶部到底部呈斜面平滑过渡。外钟罩64呈罩体形状，外钟罩64的顶部口径小于底部口径，外钟罩64从顶部到底部呈球面平滑过渡(当然也可以呈斜面平滑过渡，本实施例以呈球面平滑过渡为最佳)。
36.外钟罩64顶部套装有阻流顶环67。阻流顶环67搭接或卡接安装于外钟罩64顶部，阻流顶环67覆盖外钟罩64顶部一半区域，淋釉罩体5具有淋釉边缘51，淋釉边缘51与外钟罩64未覆盖阻流顶环67区域相对应。参见图2、图3，外钟罩64内侧外溢流钟腔66中的釉浆溢流时，由于外钟罩64顶部后侧区域(参考图3的位置关系)就会被阻流顶环67所阻挡，外溢流钟腔66中的釉浆就不会从外钟罩64后侧溢出，外溢流钟腔66中的釉浆顺利地从外钟罩64顶部前侧区域(参考图3的位置关系，也即图2中的淋釉边缘51区域)溢出，并参与淋釉、施釉作业。在实际布置时，淋釉罩体5一般前倾一定角度(即淋釉罩体5前侧区域水平高度低于后侧区域，可以让外溢流钟腔66中的釉浆更好地从前侧区域溢出)，本实用新型优选的淋釉边缘51呈斜面结构，淋釉边缘51处设置斜面，可以方便釉浆进行淋釉作业。
37.如图1所示，支撑横梁41数量为两个，输釉斗7顶部固定于两个支撑横梁41上，输釉斗支撑竖架4升降套装有升降筒，两个支撑横梁41端部固定于升降筒上，输釉嘴71上设有输釉阀711。
38.使用时，按照图1的结构组装好整个瓷砖釉面淋釉装置，调节淋釉罩体5的倾斜度(一般为0～5度)，如图1所示，让瓷片本体输送线布设穿过淋釉罩体5与接釉槽8之间的空间，瓷片本体输送线输送瓷片本体在淋釉罩体5下方迅速运动。向输釉斗7(输釉斗7可以比较大，根据批量化实际所需设计，图1仅作参考)中输入釉浆，打开输釉阀711，输釉斗7中的釉浆经过输釉嘴71流入到除泡网筒62的筒内，釉浆经过除泡网筒62的除泡网孔流入到内溢流钟腔65中，釉浆中如果含有气泡，则气泡就会被除泡网筒62的除泡网孔除去，同时也实现釉浆平衡减速目的，可以提升釉浆的施釉质量。除泡后的釉浆在内溢流钟腔65中慢慢升高并从内溢流顶面631溢流到外溢流钟腔66中，然后釉浆在外溢流钟腔66中慢慢升高并从外溢流顶面641溢流到淋釉罩体5表面；随着施釉的进行，内溢流钟腔65中的釉浆从内溢流顶面631溢流到外溢流钟腔66中，外溢流钟腔66中的釉浆从外溢流顶面641溢流到淋釉罩体5表面，这样就源源不断地得到慢速、压力均衡、釉浆流量可控的釉浆溢流到淋釉罩体5表面并参与淋釉、施釉作业(淋釉罩体5表面上釉浆均速地从淋釉边缘51流下并进行淋釉、施釉作业)，提高了施釉质量和效率。瓷片本体在瓷片本体输送线作用下输送至淋釉罩体5下方，淋釉罩体5上的釉浆经过淋釉边缘51在瓷片本体表面进行淋釉作业，淋釉过程中，瓷片本体在瓷片本体输送线作用下继续运输作业，进而实现整个瓷片本体表面釉层加工作业，多余的釉浆会掉落到接釉槽8中，便于回收利用。
39.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型
的保护范围之内。