1.本实用新型涉及半导体硅抛光机抛光皮修整领域，具体涉及一种自清洁抛光皮修整器。
背景技术：
2.现有的金刚石丸片修整轮修整抛光皮时会发生掉粒嵌入抛光皮中，一般毛刷清洗轮和修整轮均为分开，嵌入抛光皮中的金刚石颗粒得不到及时的清洗，导致精密抛光中产品的划伤问题，现有少数的毛刷修整二合一型的修正轮也无法解决嵌入颗粒问题，无法做到及时的清洁。
技术实现要素：
3.针对现有技术存在的问题，本实用新型提供一种自清洁抛光皮修整器，以解决上述至少一种技术问题。
4.本实用新型的技术方案是：一种自清洁抛光皮修整器，包括一修整轮，其特征在于，所述修整轮呈环形结构，且所述修整轮上安装有复数个修整器，所述修整器沿着所述修整轮的外侧边缘排布，所述修整器是由双层金刚石丸片制成的修整器，所述修整器的表面高于所述修整轮的表面；
5.所述双层金刚石丸片之间构成一环形凹槽，所述环形凹槽内设有一环形的吸附层和环形的清扫层，所述吸附层的高度和所述清扫层的高度大于所述环形凹槽的深度，所述清扫层位于所述吸附层的外侧，所述吸附层是由活性炭制成的吸附层，所述清扫层是表面覆盖有刷毛的清扫层。
6.本实用新型通过双层环绕丸片结构，毛刷和具有吸附功能的活性碳材料将金刚石丸片环绕，每个金刚石丸片周围都具有独立的活性碳材料吸附环形材料，环形清洁毛刷，每个环形活性碳材料都具有杂质吸附功能形成对丸片的自清洁能力。在提高加工硅片和石英抛光的良率的同时，也可以达到深层清洗抛光皮的效果，减少了工件加工的准备时间，很好地提升生产效率。解决加工中的修皮金刚石颗粒掉粒嵌入抛光皮中，导致产品的划伤的技术问题。
7.进一步优选，所述修整轮上设有复数个修整器组，所述修整器组包括排布呈三角形的三个修整器，且相邻修整器组之间设有另一修整器，所述另一修整器位于修整器组的内侧，且所述另一修整器沿环状排布在所述修整轮的表面。
8.本实用新型通过改进了修整器的排布方式从而能更好的起到抛光修整的效果。
9.进一步优选，所述刷毛包括第一刷毛和第二刷毛，所述第一刷毛的直径从上至下逐渐递减，所述第二刷毛的直径从上至下逐渐递增，且所述第一刷毛和所述第二刷毛交替排布在所述清扫层上。
10.本实用新型通过不同的刷毛头能够实现不同的清扫效果。
11.进一步优选，所述第一刷毛的头部与所述第二刷毛的头部均为球形。能够防止刷
毛对半导体造成损伤。
12.进一步优选，所述刷毛是呈波浪形结构的刷毛，且所述刷毛的头部呈半球形。
13.本实用新型通过波浪形结构的刷毛能够提高清洁强度。
14.进一步优选，所述刷毛是由pa、pp、pbt、pet、pvc、pfa或其他耐酸碱材质制成的刷毛。
15.本实用新型通过不同材质的刷毛能够有不同的使用效果。
16.进一步优选，所述双层金刚石丸片包括位于外侧的第一金刚石丸片和位于内侧的第二金刚石丸片，所述第一金刚石丸片和所述第二金刚石丸片通过一弧形连接片连接，所述弧形连接片构成所述环形凹槽的内壁，所述第一金刚石丸片的边缘设有第一挡片，所述第二金刚石丸片的边缘设有第二挡片，所述第一挡片与所述第二挡片的安装方向相反。
17.本实用新型通过挡片能够防止对金刚石丸片的边缘造成磨损，延长了使用寿命。
18.进一步优选，所述吸附层的表面开设有复数个等间距排布的盲孔。从而能够增加活性炭的吸附面积。
附图说明
19.图1为本实用新型修整轮的平面结构示意图；
20.图2为本实用新型修整轮的立体结构示意图；
21.图3为本实用新型修整器的结构示意图。
22.图中：1、修整轮，2、修整器，3、双层金刚石丸片，4、吸附层，5、清扫层。
具体实施方式
23.下面结合附图对本实用新型做进一步的说明。
24.如图1-图3所示，一种自清洁抛光皮修整器，包括一修整轮1，修整轮呈环形结构，且修整轮上安装有复数个修整器2，修整器沿着修整轮的外侧边缘排布，修整器是由双层金刚石丸片3制成的修整器，修整器的表面高于修整轮的表面；双层金刚石丸片之间构成一环形凹槽，环形凹槽内设有一环形的吸附层4和环形的清扫层5，吸附层的高度和清扫层的高度大于环形凹槽的深度，清扫层位于吸附层的外侧，吸附层是由活性炭制成的吸附层，清扫层是表面覆盖有刷毛的清扫层。
25.本实用新型通过双层环绕丸片结构，毛刷和具有吸附功能的活性碳材料将金刚石丸片环绕，每个金刚石丸片周围都具有独立的活性碳材料吸附环形材料，环形清洁毛刷，每个环形活性碳材料都具有杂质吸附功能形成对丸片的自清洁能力。在提高加工硅片和石英抛光的良率的同时，也可以达到深层清洗抛光皮的效果，减少了工件加工的准备时间，很好地提升生产效率。解决加工中的修皮金刚石颗粒掉粒嵌入抛光皮中，导致产品的划伤的技术问题。
26.进一步优选，修整轮上设有复数个修整器组，修整器组包括排布呈三角形的三个修整器，且相邻修整器组之间设有另一修整器，另一修整器位于修整器组的内侧，且另一修整器沿环状排布在修整轮的表面。本实用新型通过改进了修整器的排布方式从而能更好的起到抛光修整的效果。
27.进一步优选，刷毛包括第一刷毛和第二刷毛，第一刷毛的直径从上至下逐渐递减，
第二刷毛的直径从上至下逐渐递增，且第一刷毛和第二刷毛交替排布在清扫层上。本实用新型通过不同的刷毛头能够实现不同的清扫效果。
28.进一步优选，第一刷毛的头部与第二刷毛的头部均为球形。能够防止刷毛对半导体造成损伤。
29.进一步优选，刷毛是呈波浪形结构的刷毛，且刷毛的头部呈半球形。本实用新型通过波浪形结构的刷毛能够提高清洁强度。
30.进一步优选，刷毛是由pa、pp、pbt、pet、pvc、pfa或其他耐酸碱材质制成的刷毛。本实用新型通过不同材质的刷毛能够有不同的使用效果。
31.进一步优选，双层金刚石丸片包括位于外侧的第一金刚石丸片和位于内侧的第二金刚石丸片，第一金刚石丸片和第二金刚石丸片通过一弧形连接片连接，弧形连接片构成环形凹槽的内壁，第一金刚石丸片的边缘设有第一挡片，第二金刚石丸片的边缘设有第二挡片，第一挡片与第二挡片的安装方向相反。本实用新型通过挡片能够防止对金刚石丸片的边缘造成磨损，延长了使用寿命。
32.进一步优选，吸附层的表面开设有复数个等间距排布的盲孔。从而能够增加活性炭的吸附面积。
33.以上仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
技术特征：
1.一种自清洁抛光皮修整器，包括一修整轮，其特征在于，所述修整轮呈环形结构，且所述修整轮上安装有复数个修整器，所述修整器沿着所述修整轮的外侧边缘排布，所述修整器是由双层金刚石丸片制成的修整器，所述修整器的表面高于所述修整轮的表面；所述双层金刚石丸片之间构成一环形凹槽，所述环形凹槽内设有一环形的吸附层和环形的清扫层，所述吸附层的高度和所述清扫层的高度大于所述环形凹槽的深度，所述清扫层位于所述吸附层的外侧，所述吸附层是由活性炭制成的吸附层，所述清扫层是表面覆盖有刷毛的清扫层。2.根据权利要求1所述的一种自清洁抛光皮修整器，其特征在于：所述修整轮上设有复数个修整器组，所述修整器组包括排布呈三角形的三个修整器，且相邻修整器组之间设有另一修整器，所述另一修整器位于修整器组的内侧，且所述另一修整器沿环状排布在所述修整轮的表面。3.根据权利要求1所述的一种自清洁抛光皮修整器，其特征在于：所述刷毛包括第一刷毛和第二刷毛，所述第一刷毛的直径从上至下逐渐递减，所述第二刷毛的直径从上至下逐渐递增，且所述第一刷毛和所述第二刷毛交替排布在所述清扫层上。4.根据权利要求3所述的一种自清洁抛光皮修整器，其特征在于：所述第一刷毛的头部与所述第二刷毛的头部均为球形。5.根据权利要求1所述的一种自清洁抛光皮修整器，其特征在于：所述刷毛是呈波浪形结构的刷毛，且所述刷毛的头部呈半球形。6.根据权利要求1所述的一种自清洁抛光皮修整器，其特征在于：所述双层金刚石丸片包括位于外侧的第一金刚石丸片和位于内侧的第二金刚石丸片，所述第一金刚石丸片和所述第二金刚石丸片通过一弧形连接片连接，所述弧形连接片构成所述环形凹槽的内壁，所述第一金刚石丸片的边缘设有第一挡片，所述第二金刚石丸片的边缘设有第二挡片，所述第一挡片与所述第二挡片的安装方向相反。7.根据权利要求1所述的一种自清洁抛光皮修整器，其特征在于：所述吸附层的表面开设有复数个等间距排布的盲孔。
技术总结
本实用新型提供一种自清洁抛光皮修整器，包括一修整轮，修整轮呈环形结构，且修整轮上安装有复数个修整器，修整器沿着修整轮的外侧边缘排布，修整器是由双层金刚石丸片制成的修整器，修整器的表面高于修整轮的表面；双层金刚石丸片之间构成一环形凹槽，环形凹槽内设有一环形的吸附层和环形的清扫层，吸附层的高度和清扫层的高度大于环形凹槽的深度，清扫层位于吸附层的外侧，吸附层是由活性炭制成的吸附层，清扫层是表面覆盖有刷毛的清扫层。本实用新型通过双层环绕丸片结构，毛刷和具有吸附功能的活性碳材料将金刚石丸片环绕，金刚石丸片周围都具有碳材料吸附环形材料清洁毛刷，每个环形活性碳材料都具有杂质吸附功能形成对丸片的自清洁能力。片的自清洁能力。片的自清洁能力。
技术研发人员：秦刚 贺贤汉 王宇
受保护的技术使用者：上海汉虹精密机械有限公司
技术研发日：2021.07.20
技术公布日：2022/1/21