1.本实用新型涉及等离子体溅射设备技术领域，更具体地说，涉及一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器。
背景技术：
2.等离子体溅射加工技术，被广泛应用于各种薄膜工艺中，等离子体溅射技术是采用直流或射频的方法使稀有气体电离成等离子体,再通过偏置等方法轰击在需要溅射的靶上,使靶上的原子有足够的能力脱离原子间的力飞溅出来,最后落在需要镀的基板上。理想的状态是等离子体均匀充满整个真空腔内，在基板保持器上沉积出最大面积而且均匀的薄膜；但是，现有等离子体溅射设备用基板保持器中，基板保持器的前方设置有一块挡板，从而影响到沉积薄膜的面积，而且基板在真空腔内固定不动，真空腔内的等离子体分布不均导致形成的薄膜不均匀。
技术实现要素：
3.本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的安装于基板上的样品表面的薄膜不均匀以及面积小的问题，提供一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器。
4.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
5.一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，包括基板和中轴，所述基板固定连接在所述中轴的左端，所述中轴的右端转动连接有安装法兰，所述中轴上还设置有能绕所述中轴转动的支撑板，所述中轴上还固定设置有固定板，所述固定板上设置有第一磁块，所述安装法兰的外端面上设置有环形滑槽，所述环形滑槽上滑动设置有与所述第一磁块相吸的第二磁块；
6.所述支撑板上还固定设置有上支撑条和下支撑条，所述上支撑条和下支撑条间设置有能转动的左挡板和右挡板，所述支撑板上还贯穿设置有拉杆，所述拉杆的两侧分别与所述左挡板和右挡板啮合，所述拉杆上还设置有分别位于所述支撑板左右两侧的左限位块和右限位块，所述左限位块和所述支撑板间还设置有弹簧，所述拉杆的右端设置有铁块，所述安装法兰的外端面上设有与所述铁块对应的电磁块。
7.优选地，所述中轴的右端通过轴承与安装法兰连接。
8.优选地，所述中轴与所述支撑板间设置有轴承。
9.优选地，所述上支撑条和下支撑条分别焊接在所述支撑板上。
10.优选地，所述安装法兰上设置有若干与真空腔端面固定连接的安装孔。
11.本实用新型的有益效果在于：
12.1、通过在安装法兰上设置第二磁块、在固定板上设置第一磁块，当用手推动第二磁块在环形滑槽内运动时，第二磁块对第一磁块的吸力使得中轴转动，从而带动基板转动；当真空腔内的等离子体分布不均时，安装于基板上的样品由于不断转动，样品表面形成的薄膜就会更加均匀。同时该基板保持架安装于真空腔内后，不需在安装法兰上穿孔设置机
械结构使中轴转动，避免了抽真空时气封难的问题。
13.2、通过设置左挡板、右挡板和拉杆，以及在拉杆端部设置铁块、在安装法兰的外端面上设有电磁块；当电磁块得电，电磁块吸引铁块使得拉杆右移，从而使得左挡板、右挡板转动，实现准确灵活地打开活关闭，实现精确控制基板的暴露和遮挡时间，以实现在不同时段对安装于基板上的样品进行刻蚀，沉积和保护。
附图说明
14.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的部分实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他附图：
15.图1是本实用新型较佳实施例的改进型基板保持器的结构示意图；
16.图2是图1的a向视图；
17.图3是图1的b向视图；
18.图4是图2的c-c视图。
具体实施方式
19.为了使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的部分实施例，而不是全部实施例。基于本实用新型的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型的保护范围。
20.本实用新型的较佳实施例如图1所示，一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，基板6采用焊接的方式固定连接在中轴3的左端，中轴3的右端设置有轴承，该轴承安装在安装法兰1的左端面。中轴3的中部也设置有轴承，该轴承支撑有能绕中轴3转动的支撑板4。本实用新型在使用时被内置于管状的真空腔内(图中未示出)，本实用新型的左端插入真空腔内，安装法兰1固定安装在真空腔的右端面上。一般地，安装法兰1上设置有多个与真空腔端面固定连接的安装孔，安装法兰1通过螺栓连接在真空腔端面上。支撑板4的外径与真空腔端的内腔稍小，一方面能够轻易地在真空腔内抽插本实用新型，另一方面支撑板4对中轴3起到支撑作用。基板6用于安放样品，采用现有基板结构。
21.如图1，中轴3上还固定设置有固定板21，固定板2上设置有第一磁块21。支撑板4上还焊接设置有上支撑条9和下支撑条5，支撑板4上还贯穿设置有拉杆8，拉杆8上设置有分别位于支撑板4左右两侧的左限位块81和右限位块82，左限位块81和支撑板4间设置有弹簧10，拉杆8的右端设置有铁块11，安装法兰1的外端面上设有与铁块11对应的电磁块12。当电磁块12通电，电磁块12对铁块11产生吸力，使得拉杆8向右移动；当电磁块12失电，拉杆8在弹簧10的作用下向左移动；这样，就通过电磁块12的得电或失电，实现了拉杆8的左右移动，左限位块81和右限位块82分别用于对拉杆8的左右移动进行限位。拉杆8的左右移动就能够实现挡板7的打开或关闭，具体情况如下所述。
22.如图2，参照图1，挡板7包括左挡板71和右挡板72，左挡板71和右挡板72的上下两端都分别转动支撑在上支撑条9和下支撑条5间；见图4，拉杆8的两侧分别与左挡板71和右
挡板72啮合。由此，当拉杆8移动时，会带动左挡板71和右挡板72转动，左挡板71和右挡板72转动成图2的位置时，在真空腔内形成遮挡板，当左挡板71和右挡板72转动后并拢在一起，真空腔内又变得通畅，从而实现真空腔内腔的打开和关闭，实现精确控制基板6的暴露和遮挡时间，以实现在不同时段对安装于基板6上的样品进行刻蚀，沉积和保护，使得样品上的薄膜面积比较大。
23.如图3，参照图1，安装法兰1的外端面上设置有环形滑槽13，环形滑槽13上滑动设置有与第一磁块21相吸的第二磁块14。当用手推动第二磁块14在环形滑槽13内运动时，第二磁块14对第一磁块21的吸力使得中轴3转动，从而带动基板6转动；当真空腔内的等离子体分布不均时，安装于基板6上的样品由于不断转动，样品表面形成的薄膜就会更加均匀。本实用新型中，通过采用磁吸附的方式传递力，即铁块11与电磁块12之间的力传递，第一磁块21与第二磁块14之间的力传递，不需在安装法兰1上打孔通过机械结构来传递力，避免了安装法兰1抽真空时气封难的问题。
24.应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
技术特征：
1.一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，包括基板和中轴，所述基板固定连接在所述中轴的左端，其特征在于，所述中轴的右端转动连接有安装法兰，所述中轴上还设置有能绕所述中轴转动的支撑板，所述中轴上还固定设置有固定板，所述固定板上设置有第一磁块，所述安装法兰的外端面上设置有环形滑槽，所述环形滑槽上滑动设置有与所述第一磁块相吸的第二磁块；所述支撑板上还固定设置有上支撑条和下支撑条，所述上支撑条和下支撑条间设置有能转动的左挡板和右挡板，所述支撑板上还贯穿设置有拉杆，所述拉杆的两侧分别与所述左挡板和右挡板啮合，所述拉杆上还设置有分别位于所述支撑板左右两侧的左限位块和右限位块，所述左限位块和所述支撑板间还设置有弹簧，所述拉杆的右端设置有铁块，所述安装法兰的外端面上设有与所述铁块对应的电磁块。2.根据权利要求1所述的一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，其特征在于，所述中轴的右端通过轴承与安装法兰连接。3.根据权利要求1所述的一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，其特征在于，所述中轴与所述支撑板间设置有轴承。4.根据权利要求1所述的一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，其特征在于，所述上支撑条和下支撑条分别焊接在所述支撑板上。5.根据权利要求1所述的一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，其特征在于，所述安装法兰上设置有若干与真空腔端面固定连接的安装孔。
技术总结
本实用新型涉及一种等离子体溅射设备用的改进型基板保持器，基板固定连接在中轴的左端，中轴的右端转动连接有安装法兰，中轴上还设置有支撑板，中轴和固定板，固定板上设置有第一磁块，安装法兰的外端面上设置有环形滑槽，环形滑槽上滑动设置有第二磁块；支撑板上还固定设置有上支撑条和下支撑条，上支撑条和下支撑条间设置有能转动的左挡板和右挡板，支撑板上还贯穿设置有拉杆，拉杆的两侧分别与左挡板和右挡板啮合，拉杆上还设置有分别位于支撑板左右两侧的左限位块和右限位块，左限位块和支撑板间还设置有弹簧，拉杆的右端设置有铁块，安装法兰的外端面上设有与铁块对应的电磁块。本实用新型能使样品表面形成的薄膜更大更均匀。均匀。均匀。
技术研发人员：殷涌
受保护的技术使用者：深圳市天铭研科科技开发有限公司
技术研发日：2021.09.02
技术公布日：2022/2/11