1.本实用新型属于多晶黑硅片生产技术领域，特别是涉及一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置。
背景技术：
2.在生产硅片的过程中，需要对硅片进行抛光形成抛光片，在抛光后需要进行清洗工序，现有的清洗时可采用直冲式或旋转喷淋式的方式，而若是直冲式的清洗方式则会出现清洗效果不好的问题，而若是使用旋转喷淋的方式进行清洗时会出现清洗效率较低的问题。
技术实现要素：
3.本实用新型的目的在于提供一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，通过设置吸附盘能够对硅片进行吸附固定，同时通过设置可旋转的吸附盘能够带动硅片进行转动，并且在清洗盘一侧设置喷头，能够实现离心清洗，能够有效提高硅片的清洗效率，同时设置多个清洗座，并且配置适配的传动机构，能够使用一个驱动电机同时控制多个吸附盘的旋转，从而大大提高清洗效率，并且具备节能的作用。
4.为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：
5.本实用新型为一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，包括储液桶、支撑架和若干清洗盘；
6.所述支撑架为中空圆环状架体结构，所述支撑架固定在储液桶外表面的上部，所述支撑架周侧面设有若干外凸壳，所述支撑架内底面通过回转支承转动连接有转圈，所述转圈内表面和外表面分别固定有内齿圈和外齿圈；
7.若干所述清洗盘分别固定在若干外凸壳顶部，所述清洗盘内底部转动连接有中空轴体，所述中空轴体位于清洗盘内下部的位置固定有吸附盘，所述吸附盘内设有气腔，所述吸附盘上部开设有若干吸附口，所述中空轴体和若干吸附口均与气腔连通；
8.所述中空轴体位于外凸壳内部的位置固定有第一齿轮，所述第一齿轮与外齿圈啮合，所述中空轴体位于外凸壳外部一端通过轴承转动连接有抽气管；
9.所述清洗盘顶部外侧倾斜固定有固定沿，所述固定沿上固定有若干喷头。
10.进一步地，所述支撑架底部固定有驱动电机，所述驱动电机输出端贯穿支撑架底部且固定有第二齿轮，所述第二齿轮与内齿圈啮合。
11.进一步地，所述储液桶底部固定有底座，所述底座一侧通过安装座固定有气泵，所述储液桶周侧面固定有第一分流通道，所述气泵的进气口与第一分流通道连通，若干所述清洗盘上的抽气管均与第一分流通道连通。
12.进一步地，所述储液桶周侧面固定有第二分流通道，所述清洗盘上设有排液管，若干所述清洗盘上的排液管均与第二分流通道连通，所述第二分流通道一侧设有排料管。
13.进一步地，所述储液桶周侧面固定有第三分流通道，所述底座另一侧通过安装座
固定有泵体，所述泵体的进水口与储液桶下部连通，所述泵体的排水口与第三分流通道连通，若干所述清洗盘上的喷头均通过连接管与第三分流通道连通。
14.进一步地，所述储液桶顶部边缘处固定有进液管，所述进液管端部设有盖体。
15.本实用新型具有以下有益效果：
16.本实用新型通过设置吸附盘能够对硅片进行吸附固定，同时通过设置可旋转的吸附盘能够带动硅片进行转动，并且在清洗盘一侧设置喷头，能够实现离心清洗，能够有效提高硅片的清洗效率，同时设置多个清洗座，并且配置适配的传动机构，能够使用一个驱动电机同时控制多个吸附盘的旋转，能够同时对多个硅片进行清洗，从而大大提高清洗效率，并且具备节能的作用。
17.当然，实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
18.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
19.图1为本实用新型的一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置的结构示意图；
20.图2为本实用新型的结构剖视图；
21.图3为图2中a处的局部放大图；
22.图4为支撑架的结构示意图；
23.图5为清洗盘的结构示意图；
24.图6为储液桶的结构示意图；
25.附图中，各标号所代表的部件列表如下：
26.1-储液桶，2-支撑架，3-清洗盘，101-底座，102-气泵，103-第一分流通道，104-第二分流通道，105-排料管，106-第三分流通道，107-泵体，108-进液管，109-盖体，201-外凸壳，202-转圈，203-内齿圈，204-外齿圈，205-驱动电机，206-第二齿轮，301-中空轴体，302-吸附盘，303-气腔，304-吸附口，305-第一齿轮，306-抽气管，307-固定沿，308-喷头。
具体实施方式
27.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
28.请参阅图1-6所示，本实用新型为一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，包括储液桶1、支撑架2和若干清洗盘3；
29.支撑架2为中空圆环状架体结构，支撑架2固定在储液桶1外表面的上部，支撑架2周侧面设有若干外凸壳201，支撑架2内底面通过回转支承转动连接有转圈202，转圈202内表面和外表面分别固定有内齿圈203和外齿圈204；
30.若干清洗盘3分别固定在若干外凸壳201顶部，清洗盘3内底部转动连接有中空轴
体301，中空轴体301位于清洗盘3内下部的位置固定有吸附盘302，吸附盘302内设有气腔303，吸附盘302上部开设有若干吸附口304，中空轴体301和若干吸附口304均与气腔303连通；
31.中空轴体301位于外凸壳201内部的位置固定有第一齿轮305，第一齿轮305与外齿圈204啮合，中空轴体301位于外凸壳201外部一端通过轴承转动连接有抽气管306；
32.清洗盘3顶部外侧倾斜固定有固定沿307，固定沿307上固定有若干喷头308。
33.其中如图2-4所示，支撑架2底部固定有驱动电机205，驱动电机205输出端贯穿支撑架2底部且固定有第二齿轮206，第二齿轮206与内齿圈203啮合。
34.其中如图1-2和图6所示，储液桶1底部固定有底座101，底座101一侧通过安装座固定有气泵102，储液桶1周侧面固定有第一分流通道103，气泵102的进气口与第一分流通道103连通，若干清洗盘3上的抽气管306均与第一分流通道103连通。
35.其中如图1-2和图6所示，储液桶1周侧面固定有第二分流通道104，清洗盘3上设有排液管，若干清洗盘3上的排液管均与第二分流通道104连通，第二分流通道104一侧设有排料管105，吸附盘302的外径小于清洗盘3的内径，排液管设置在吸附盘302和清洗盘3之间的空隙内。
36.其中如图1-2和图6所示，储液桶1周侧面固定有第三分流通道106，底座101另一侧通过安装座固定有泵体107，泵体107的进水口与储液桶1下部连通，泵体107的排水口与第三分流通道106连通，若干清洗盘3上的喷头308均通过连接管与第三分流通道106连通，喷头308数量设置为三个，三个喷头308通过三通和连接管与第三分流通道106连通。
37.其中如图1-2和图6所示，储液桶1顶部边缘处固定有进液管108，进液管108端部设有盖体109。
38.其中，可在储液桶1顶部设置多个滑移架和机械臂，用于硅片的上料和出料，同时在支撑架2外部的地面上设置两个料箱，一个用于待洗硅片的放置，另一个用于洗完后硅片的收集。
39.其中，设置plc控制器，用于上下料机械臂的操控和清洗时间的定时。
40.本实用新型的工作原理为：通过机械臂能够将硅片移动至清洗盘3内，通过气泵102能够抽取第一分流通道103内的气体，同时通过抽气管306、中空轴体301、气腔303和吸附口304能够稳定将硅片吸附在吸附盘302上，通过泵体107能够将储液桶1内的清洗剂吸收并排至第三分流通道106内，第三分流通道106内的清洗剂排至清洗盘3上的喷头308内，以喷雾或喷液的方式向硅片喷射，同时驱动电机205运行带动第二齿轮206转动，从而实现转圈202的转动，通过转圈202、第一齿轮305和中空轴体301的配合能够同步带动若干清洗盘3上的吸附盘302转动，从而带动吸附盘302上硅片跟随转动，实现离心清洗，清洗使用的水通过排液管回流至第二分流通道104内汇合并通过排料管105排出。
41.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
42.以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并
没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。