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专利摘要

本发明涉及一种BGA产品的磁控溅射方法,所述方法包括以下步骤:步骤一、取一BGA产品,在BGA产品的基板的锡球外围靠近边缘位置开设有一圈凹槽;步骤二、取一溅镀治具,在溅镀治具表面设计一圈连续的支撑坝,支撑坝的位置和大小与基板的凹槽相配合;步骤三、将BGA产品放置于溅镀治具上进行溅镀,产品底面凹槽搁置于溅镀治具的支撑坝上,在锡球区域形成一个内部密闭空间,同时锡球不与溅镀治具接触。
本发明通过对BGA基板和溅镀治具的结构设计,可以实现溅镀过程中产品锡球不被溅镀,工艺简单,不需使用胶带耗材,作业性强,节约成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910809187.2
申请日
2019-08-29
公开日
2021-07-27
公开号
CN110565058B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

邢发军 许伟 马国海 张明俊 李全兵

申请人

江苏长电科技股份有限公司

申请人地址

214400 江苏省无锡市江阴市江阴高新区长山路78号

专利摘要

本发明涉及一种BGA产品的磁控溅射方法,所述方法包括以下步骤:步骤一、取一BGA产品,在BGA产品的基板的锡球外围靠近边缘位置开设有一圈凹槽;步骤二、取一溅镀治具,在溅镀治具表面设计一圈连续的支撑坝,支撑坝的位置和大小与基板的凹槽相配合;步骤三、将BGA产品放置于溅镀治具上进行溅镀,产品底面凹槽搁置于溅镀治具的支撑坝上,在锡球区域形成一个内部密闭空间,同时锡球不与溅镀治具接触。
本发明通过对BGA基板和溅镀治具的结构设计,可以实现溅镀过程中产品锡球不被溅镀,工艺简单,不需使用胶带耗材,作业性强,节约成本。

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