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专利摘要

本发明公开了一种蚀刻螯合剂及其制备方法与蚀刻液组合物,所述蚀刻螯合剂包括纤维素交联聚合物,所述纤维素交联聚合物由羧甲基纤维素与胺类化合物交联聚合而得。
所述蚀刻螯合剂中含有大量的羧基与胺基,与铜离子能够发生较强的螯合作用,并形成沉淀将铜离子从溶液中脱离出来,因此,使用加入此蚀刻螯合剂的蚀刻液进行含铜膜层蚀刻时,可有效抑制蚀刻液中铜离子浓度的升高。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010209957.2
申请日
2020-03-23
公开日
2021-04-27
公开号
CN111349938B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

吴豪旭

申请人

深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

申请人地址

518132 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号

专利摘要

本发明公开了一种蚀刻螯合剂及其制备方法与蚀刻液组合物,所述蚀刻螯合剂包括纤维素交联聚合物,所述纤维素交联聚合物由羧甲基纤维素与胺类化合物交联聚合而得。
所述蚀刻螯合剂中含有大量的羧基与胺基,与铜离子能够发生较强的螯合作用,并形成沉淀将铜离子从溶液中脱离出来,因此,使用加入此蚀刻螯合剂的蚀刻液进行含铜膜层蚀刻时,可有效抑制蚀刻液中铜离子浓度的升高。

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