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专利摘要

本发明涉及选择性地蚀刻用作TFT‑LCD显示器的电极的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物,根据本发明,可以提供铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物,该蚀刻液组合物能够实现对铜膜和含钼膜的选择性的蚀刻,通过容易的蚀刻速度的控制,可以提供具有目标图案的直线性和锥角的金属配线,实现稳定的蚀刻轮廓,从而不仅可实现高处理张数,而且对大面积处理有效。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010646905.1
申请日
2020-07-07
公开日
2021-02-09
公开号
CN112342547A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

朴相承 金益儁 金载烨 李宝研 金世训

申请人

易安爱富科技有限公司

申请人地址

韩国京畿道

专利摘要

本发明涉及选择性地蚀刻用作TFT‑LCD显示器的电极的铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物,根据本发明,可以提供铜膜和含钼膜的蚀刻液组合物,该蚀刻液组合物能够实现对铜膜和含钼膜的选择性的蚀刻,通过容易的蚀刻速度的控制,可以提供具有目标图案的直线性和锥角的金属配线,实现稳定的蚀刻轮廓,从而不仅可实现高处理张数,而且对大面积处理有效。

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