本发明涉及一种蚀刻液组合物,包含:过氧化氢;分子内包含选自氧、硫和氮中的任意一种或两种以上的环状或芳香族化合物;氨基羧酸系或氨基磷酸系化合物;选自有机酸、无机酸或它们的盐中的任意一种或两种以上的化合物;底切抑制剂;以及包含C
李明翰 安镐源 金世训
易案爱富科技有限公司
韩国京畿道
本发明涉及一种蚀刻液组合物,包含:过氧化氢;分子内包含选自氧、硫和氮中的任意一种或两种以上的环状或芳香族化合物;氨基羧酸系或氨基磷酸系化合物;选自有机酸、无机酸或它们的盐中的任意一种或两种以上的化合物;底切抑制剂;以及包含C