本发明涉及一种蚀刻液组合物，包含：过氧化氢；分子内包含选自氧、硫和氮中的任意一种或两种以上的环状或芳香族化合物；氨基羧酸系或氨基磷酸系化合物；选自有机酸、无机酸或它们的盐中的任意一种或两种以上的化合物；底切抑制剂；以及包含C

李明翰 安镐源 金世训

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韩国京畿道

本发明涉及一种蚀刻液组合物，包含：过氧化氢；分子内包含选自氧、硫和氮中的任意一种或两种以上的环状或芳香族化合物；氨基羧酸系或氨基磷酸系化合物；选自有机酸、无机酸或它们的盐中的任意一种或两种以上的化合物；底切抑制剂；以及包含C