一种电子束扫描制备石墨烯晶体薄膜的方法，该方法包括以下步骤：束斑标定位置调整；束斑范围标定；工艺参数计算；工艺参数测试；制备区定位；石墨烯晶体薄膜制备。
本发明在真空环境下，采用电子束扫描碳聚合物薄膜表面制备石墨烯晶体薄膜，可调工艺参数多，如工作电压、束流、聚焦电流、工作距离、扫描轨迹、扫描频率、扫描范围均可调节，因此可以组合的工作参数较多，更加能够适应不同规格、不同用途石墨烯晶体薄膜制备的需求；此外，在真空环境下制备石墨烯晶体薄膜，不易受到其它杂质气体的影响，石墨烯晶体薄膜的质量较好，并且与激光相比，电子与材料作用时能量转化效率高，且制备过程中不需要在材料表面涂覆光敏材料，简化工艺过程。

许海鹰

中国航空制造技术研究院

100024 北京市朝阳区八里桥北东军庄1号

一种电子束扫描制备石墨烯晶体薄膜的方法，该方法包括以下步骤：束斑标定位置调整；束斑范围标定；工艺参数计算；工艺参数测试；制备区定位；石墨烯晶体薄膜制备。
本发明在真空环境下，采用电子束扫描碳聚合物薄膜表面制备石墨烯晶体薄膜，可调工艺参数多，如工作电压、束流、聚焦电流、工作距离、扫描轨迹、扫描频率、扫描范围均可调节，因此可以组合的工作参数较多，更加能够适应不同规格、不同用途石墨烯晶体薄膜制备的需求；此外，在真空环境下制备石墨烯晶体薄膜，不易受到其它杂质气体的影响，石墨烯晶体薄膜的质量较好，并且与激光相比，电子与材料作用时能量转化效率高，且制备过程中不需要在材料表面涂覆光敏材料，简化工艺过程。