| 176 |
一种金刚石研磨液及其制备方法 |
CN202010502728.X |
2020-06-04 |
审查中-实审 |
| 177 |
玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 |
CN201680028231.0 |
2016-05-20 |
有效专利 |
| 178 |
研磨用组合物及研磨方法 |
CN201580018008.3 |
2015-03-30 |
审查中-公开 |
| 179 |
一种用于钢模具表面镜面处理的研磨液及使用方法 |
CN201810940580.0 |
2018-08-20 |
有效专利 |
| 180 |
研磨材 |
CN201680076410.1 |
2016-12-26 |
审查中-实审 |
| 181 |
玻璃基板的研磨方法、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法、研磨液和氧化铈的还原方法 |
CN201780051993.7 |
2017-11-24 |
有效专利 |
| 182 |
一种半导体硅片研磨液稳定性控制方法 |
CN201711379751.9 |
2017-12-20 |
有效专利 |
| 183 |
研磨抛光用高硬度硅溶胶的生产方法 |
CN202010837634.8 |
2020-08-19 |
审查中-实审 |
| 184 |
一种晶片研磨油及其制备方法 |
CN202010711479.5 |
2020-07-22 |
发明公开 |
| 185 |
一种用于半导体晶片加工的研磨液的制备方法 |
CN202010907453.8 |
2020-09-02 |
审查中-实审 |
| 186 |
硅晶圆的研磨方法、研磨用组合物及研磨用组合物套组 |
CN201580032746.3 |
2015-06-11 |
发明公开 |
| 187 |
一种用于半导体晶片加工的研磨液 |
CN202010907777.1 |
2020-09-02 |
审查中-实审 |
| 188 |
一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法 |
CN201710168716.6 |
2017-03-21 |
审查中-实审 |
| 189 |
一种机械研磨浆液的制备方法 |
CN202011048263.1 |
2020-09-29 |
审查中-实审 |
| 190 |
机械研磨润滑液、包含其的水基研磨抛光液及其应用 |
CN202011159873.9 |
2020-10-26 |
发明公开 |
| 191 |
一种氧化锆复合磨料的制备工艺及研磨液 |
CN202010441370.4 |
2020-05-22 |
有效专利 |
| 192 |
一种SiC单晶片研磨用水基研磨液及其制备方法 |
CN201910001883.0 |
2019-01-02 |
有效专利 |
| 193 |
一种铍材六面体表面高硬度化学镀镍层镀覆及研磨方法 |
CN201910364750.X |
2019-04-30 |
有效专利 |
| 194 |
研磨用组合物和研磨用组合物套组 |
CN201780053523.4 |
2017-08-29 |
审查中-实审 |
| 195 |
研磨用组合物及硅晶圆的研磨方法 |
CN201780069432.X |
2017-11-06 |
有效专利 |
| 196 |
研磨用组合物 |
CN201680009819.1 |
2016-02-04 |
发明公开 |
| 197 |
研磨用组合物 |
CN201780077276.1 |
2017-12-11 |
有效专利 |
| 198 |
研磨液以及研磨方法 |
CN201780069668.3 |
2017-08-15 |
审查中-实审 |
| 199 |
二氧化钛颜料研磨分散体和油漆 |
CN201710079901.8 |
2013-04-22 |
有效专利 |
| 200 |
一种高品质合成云母的研磨方法 |
CN201910680295.4 |
2019-07-25 |
审查中-实审 |
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