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一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽的制作方法

时间:2022-02-05 阅读: 作者:专利查询

一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽的制作方法

1.本实用新型涉及建筑附加结构技术领域,特别是涉及一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽。


背景技术:

2.常规的憎水水槽通常用不同的混凝土部件拼接而成,为了确保结构的强度、降低成本、简化铺设难度,通常在拼接件之间设置连接架,通过连接架来保证水槽结构的完整,同时确保水槽结构的结构强度,但是通过连接架对接的憎水水槽容易出现漏水现象,同时连接架对接难度高,不适合快速铺设,为了解决上述技术问题,设计一种新的憎水水槽是非常有必要的。


技术实现要素:

3.本实用新型所要解决的技术问题是提供一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,具有铺设速度快、防水效果好、降低整体成本等特点。
4.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,包括水槽拼接块、防水层和对接延伸,所述的水槽拼接块共有若干块,呈首尾对接布置,所述的水槽拼接块的上表面上设置有防水层,所述的水槽拼接块一端设置有对接延伸,另一端设置有与对接延伸匹配的对接凹槽。
5.作为对本技术方案的一种补充,所述的水槽拼接块中部内凹形成槽体,槽体两侧设置有斜面结构,所述的水槽拼接块前后侧设置有连接片。
6.作为对本技术方案的一种补充,所述的防水层由憎水乳液组成。
7.作为对本技术方案的一种补充,所述的对接延伸和对接凹槽之间设置有涂抹有防水砂浆。
8.有益效果:本实用新型涉及一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,本技术方案中通过设置若干首尾相接的水槽拼接块,使得建筑上的水槽结构得以成型,同时通过设置对接凹槽和对接延伸,方便水槽拼接块对接,降低操作难度、提高铺设速度,同时本技术方案中设置防水层结构能够避免漏水,本装置具有铺设速度快、防水效果好、降低整体成本等特点。
附图说明
9.图1是本实用新型的俯视图;
10.图2是本实用新型所述的水槽拼接块的主视图;
11.图3是本实用新型所述的水槽拼接块的剖视图;
12.图4是本实用新型所述的水槽拼接块的俯视图。
13.图示:1、水槽拼接块,2、槽体,3、连接片,4、对接延伸,5、对接凹槽,6、防水层。
具体实施方式
14.下面结合具体实施例,进一步阐述本实用新型。应理解,这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解,在阅读了本实用新型讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
15.本实用新型的实施方式涉及一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,如图1—4所示,包括水槽拼接块1、防水层6和对接延伸4,所述的水槽拼接块1共有若干块,呈首尾对接布置,所述的水槽拼接块1的上表面上设置有防水层6,所述的水槽拼接块1一端设置有对接延伸4,另一端设置有与对接延伸4匹配的对接凹槽5。
16.进行操作的时候,将一块一块水槽拼接块1铺设在建筑水槽设置位置,同时对接延伸4与对接凹槽5形成叠放,完成水槽布置,之后将防水层6涂抹在水槽上,形成防水效果。
17.作为对本技术方案的一种补充,所述的水槽拼接块1中部内凹形成槽体2,槽体2两侧设置有斜面结构,所述的水槽拼接块1前后侧设置有连接片3。
18.作为对本技术方案的一种补充,所述的防水层6由憎水乳液组成。
19.防水层6由憎水乳液组成,涂抹简单、操作方便。
20.作为对本技术方案的一种补充,所述的对接延伸4和对接凹槽5之间设置有涂抹有防水砂浆,为了避免水流从对接延伸4和对接凹槽5指间处渗出,在两者之间涂抹有防水砂浆。


技术特征:
1.一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,其特征在于:包括水槽拼接块(1)、防水层(6)和对接延伸(4),所述的水槽拼接块(1)共有若干块,呈首尾对接布置,所述的水槽拼接块(1)的上表面上设置有防水层(6),所述的水槽拼接块(1)一端设置有对接延伸(4),另一端设置有与对接延伸(4)匹配的对接凹槽(5)。2.根据权利要求1所述的一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,其特征在于:所述的水槽拼接块(1)中部内凹形成槽体(2),槽体(2)两侧设置有斜面结构,所述的水槽拼接块(1)前后侧设置有连接片(3)。3.根据权利要求1所述的一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,其特征在于:所述的防水层(6)由憎水乳液组成。4.根据权利要求1所述的一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,其特征在于:所述的对接延伸(4)和对接凹槽(5)之间设置有涂抹有防水砂浆。

技术总结
本实用新型涉及一种采用高延性混凝土制作的憎水水槽,包括水槽拼接块、防水层和对接延伸,所述的水槽拼接块共有若干块,呈首尾对接布置,所述的水槽拼接块的上表面上设置有防水层,所述的水槽拼接块一端设置有对接延伸,另一端设置有与对接延伸匹配的对接凹槽。本实用新型具有铺设速度快、防水效果好、降低整体成本等特点。成本等特点。成本等特点。


技术研发人员:陈汉彝 武猛 韩甲兴 石启冬
受保护的技术使用者:上海二十冶建设有限公司
技术研发日:2021.08.20
技术公布日:2022/1/28