1.本实用新型涉及perc电池加工技术领域，尤其涉及到用于perc电池加工用pecvd氮化硅覆膜机。
背景技术：
2.为了提高光伏晶硅电池光电转换效率和使用寿命，提高光伏电池的光吸收率，在光伏晶硅电池表面制备减反射薄膜主要采用等离子体增强化学气相沉积方法(pecvd)，同时还起到体钝化和面钝化作用，降低光伏电池组件的衰减速度，等离子体增强化学气相沉积方法(pecvd)是制备薄膜材料的几种方法中技术最为成熟、操作较为简单的一种，联续自动化生产，现阶段的覆膜方式有时需要人工将硅片放置在设备内部进行覆膜，影响覆膜的效率且加重工作人员的负担。
3.为此，本实用新型公开了用于perc电池加工用pecvd氮化硅覆膜机，相比于现有技术，本实用新型可以通过快速的将硅片放置在设备内进行覆膜，覆膜效率高，减轻工作人员负担。
技术实现要素：
4.本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供了用于perc电池加工用pecvd氮化硅覆膜机，相比于现有技术，本实用新型可以通过快速的将硅片放置在设备内进行覆膜，覆膜效率高，减轻工作人员负担。
5.本实用新型是通过以下技术方案实现的：用于perc电池加工用pecvd氮化硅覆膜机，其结构包括覆膜系统，覆膜系统包括布置有反应腔的容器、布置在反应腔内部的镀膜组件、开设在容器表面的至少一个第一豁口和与第一豁口对应设置的可以开关闭合的观察窗；架体，架体包括柱体和在柱体表面布置的至少一个沿柱体侧边设置的凸起，凸起开设有多个豁槽，硅片放置在凸起位置处，硅片与豁槽对应设置；轨迹系统，轨迹系统包括在第一豁口二侧布置的第一轨道和第二轨道，第一轨道在反应腔外部设置，第二轨道在反应腔内部设置；载具，布置为沿轨迹系统移动往返于架体和反应腔外部空间之间，载具包括移动部件、在移动部件上设置的升降组件和连接升降组件的板体；其中，升降组件带动板体运动，板体与凸起的数目相同，当板体运动到架体位置处时，板体与豁槽对齐设置。
6.对于本实用新型中的覆膜机，首先在载具的板体上放置待覆膜的硅片，载具先沿第一轨道运动，当运动到观察窗位置处时，观察窗自动打开，载具继续运动，穿过观察窗运动至第二轨道位置处，沿第二轨道继续运行至架体位置处，此时板体与豁槽对齐，使升降部件下降，将板体上的硅片放置在凸起上，关闭观察窗，通过抽真空设备使反应腔处于真空状态，通过脉冲射频激发受热的稀薄气体进行辉光放电形成等离子体，通过两片相对应的石墨片加相反的交变电压使等离子在极板间加速撞击气体，运动到硅片表面完成镀膜，此后载具再移动至架体位置处，升降组件升高，通过板体将硅片取出凸起，再将完成覆膜的硅片通过轨迹系统移动到反应腔的外部，相比于现有技术，本实用新型可以通过快速的将硅片
放置在设备内进行覆膜，覆膜效率高，减轻工作人员负担。
7.优选地，为了可以同时对更多的硅片进行覆膜，容器呈圆柱状设计，容器侧壁周向等间距开设有五个第一豁口，柱体侧壁周向等间距开设有五个豁槽，豁槽位置处均设置有观察窗，架体还包括驱动系统，驱动系统带动柱体旋转，方便通过载具在不同角度的豁槽放置硅片。
8.优选地，观察窗用于密封第一豁口，设置有驱动组件自动开关或开启观察窗。
9.优选地，为方便理解，本实用新型还公开一种移动部件和升降组件的具体结构，移动部件包括外壳、带动外壳运动的轮体和驱动轮体运动的动力驱动系统，升降组件，升降组件包括第一板体、上下滑动连接第一板体的第二板体和驱动第二板体沿第一板体运动的伸缩设备。
10.本实用新型公开了用于perc电池加工用pecvd氮化硅覆膜机，与现有技术相比：
11.其一、本实用新型布置有轨迹系统和载具，轨迹系统在覆膜系统的外部和内部均有布置，可以通过载具快速的将硅片放置在设备内进行覆膜，覆膜效率高，减轻工作人员负担；
12.其二、本实用新型中容器呈圆柱状设计，容器侧壁周向等间距开设有五个第一豁口，柱体侧壁周向等间距开设有五个豁槽，豁槽位置处均设置有观察窗，方便工作人员从不同角度观察硅片；
13.其三、本实用新型中架体还包括驱动系统，驱动系统带动架体旋转，进而硅片的角度也随架体的旋转而改变，方便通过载具在不同角度的豁槽位置处放置硅片，也使得柱体可以放置更多数量的硅片。
附图说明
14.图1为本实用新型中覆膜机的结构示意图；
15.图2为本实用新型中架体的结构示意图；
16.图3为本实用新型中载具的结构示意图；
17.图4为本实用新型中凸起的结构示意图。
具体实施方式
18.下面对本实用新型的实施例作详细说明，本实施例在以本实用新型技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。
19.如图1至4所示，本实用新型公开了用于perc电池加工用pecvd氮化硅覆膜机，其结构包括覆膜系统1，覆膜系统1包括布置有反应腔的容器11、布置在反应腔内部的镀膜组件、开设在容器11表面的至少一个第一豁口和与第一豁口对应设置的可以开关闭合的观察窗12；架体2，架体2包括柱体22和在柱体22表面布置的至少一个沿柱体22侧边设置的凸起23，凸起23开设有多个豁槽，硅片放置在凸起23位置处，硅片与豁槽对应设置；轨迹系统3，轨迹系统3包括在第一豁口二侧布置的第一轨道31和第二轨道32，第一轨道31在反应腔外部设置，第二轨道32在反应腔内部设置；载具4，布置为沿轨迹系统3移动往返于架体2和反应腔外部空间之间，载具4包括移动部件、在移动部件上设置的升降组件43和连接升降组件43的
板体44；其中，升降组件43带动板体44运动，板体44与凸起23的数目相同，当板体44运动到架体2位置处时，板体44与豁槽对齐设置。
20.基于上述结构，对于本实用新型中的覆膜机，首先在载具4的板体44上放置待覆膜的硅片，载具4先沿第一轨道31运动，当运动到观察窗12位置处时，观察窗12自动打开，载具4继续运动，穿过观察窗12运动至第二轨道32位置处，沿第二轨道32继续运行至架体2位置处，此时板体44与豁槽对齐，使升降部件43下降，将板体33上的硅片放置在凸起23上，关闭观察窗，通过抽真空1设备使反应腔处于真空状态，通过脉冲射频激发受热的稀薄气体进行辉光放电形成等离子体，通过两片相对应的石墨片加相反的交变电压使等离子在极板间加速撞击气体，运动到硅片表面完成镀膜，此后载具4再移动至架体2位置处，升降组件43升高，通过板体33将硅片取出凸起23，再将完成覆膜的硅片通过轨迹系统3移动到反应腔的外部，相比于现有技术，本实用新型可以通过快速的将硅片放置在设备内进行覆膜，覆膜效率高，减轻工作人员负担。
21.进一步的，为了可以同时对更多的硅片进行覆膜，容器11呈圆柱状设计，容器11侧壁周向等间距开设有五个第一豁口，柱体22侧壁周向等间距开设有五个豁槽，豁槽位置处均设置有观察窗，架体2还包括驱动系统21，驱动系统21带动柱体22旋转，方便通过载具4在不同角度的豁槽放置硅片。
22.进一步的，观察窗12用于密封第一豁口，设置有驱动组件自动开关或开启观察窗12。
23.进一步的，为方便理解，本实用新型还公开一种移动部件和升降组件43的具体结构，移动部件包括外壳41、带动外壳41运动的轮体42和驱动轮体42运动的动力驱动系统，升降组件43，升降组件43包括第一板体、上下滑动连接第一板体的第二板体和驱动第二板体沿第一板体运动的伸缩设备。
24.综上所述，相比于现有技术，本实用新型可以通过快速的将硅片放置在设备内进行覆膜，覆膜效率高，减轻工作人员负担。
25.以上，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
26.需要要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。