目录

专利摘要

本发明公开了一种基于水冰的电子束诱导刻蚀工艺,包括:(1)将附着在基底上的二维材料放入扫描电子显微镜镜腔内,将基底和二维材料降至低温;(2)通入气体,气体在样品上表面形成冰膜;(3)利用电子束对选定区域的二维材料进行刻蚀,升温直到剩余冰膜被完全去除,得到带有刻蚀图案的二维材料;所述冰膜为由所述气体凝华后形成的固体薄膜;所述低温为等于或低于所述气体在对应气压下的凝华点的温度。
与现有方法相比,本发明不需要化学试剂处理,通过升高温度去除冰层,避免了化学污染。
整个加工过程都在电镜中进行而无需额外设备。
具有良好的应用前景。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010944568.4
申请日
2020-09-10
公开日
2021-03-05
公开号
CN111792622B
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

姚光南 赵鼎 王朝阳 仇旻

申请人

西湖大学

申请人地址

310024 浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号

专利摘要

本发明公开了一种基于水冰的电子束诱导刻蚀工艺,包括:(1)将附着在基底上的二维材料放入扫描电子显微镜镜腔内,将基底和二维材料降至低温;(2)通入气体,气体在样品上表面形成冰膜;(3)利用电子束对选定区域的二维材料进行刻蚀,升温直到剩余冰膜被完全去除,得到带有刻蚀图案的二维材料;所述冰膜为由所述气体凝华后形成的固体薄膜;所述低温为等于或低于所述气体在对应气压下的凝华点的温度。
与现有方法相比,本发明不需要化学试剂处理,通过升高温度去除冰层,避免了化学污染。
整个加工过程都在电镜中进行而无需额外设备。
具有良好的应用前景。

相似专利技术