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专利名称
专利号
申请日期
专利状态
176 三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置 CN201921917195.0 2019-11-08 有效专利
177 一种碲锌镉晶片的绿色环保化学机械抛光方法 CN202010720093.0 2020-07-23 审查中-实审
178 一种具有抛光效果的除锈膏 CN201910151446.7 2019-02-28 审查中-实审
179 研磨抛光用高硬度硅溶胶的生产方法 CN202010837634.8 2020-08-19 审查中-实审
180 一种光学整流罩抛光模的制作方法 CN202010680671.2 2020-07-15 审查中-实审
181 化学机械抛光组合物以及方法 CN202010409841.3 2020-05-14 审查中-实审
182 化学机械抛光组合物以及优先于二氧化硅抛光氮化硅并同时抑制对二氧化硅的损伤的方法 CN202010405646.3 2020-05-14 审查中-实审
183 一种抗氧化去污抛光膏的制备方法 CN201910078785.7 2019-01-28 有效专利
184 一种用于熔石英的抛光组合物 CN201711361111.5 2017-12-18 有效专利
185 一种用于碳化硅CMP的抛光组合物及其制备方法 CN202011059655.8 2020-09-30 审查中-实审
186 一种纳米二氧化硅抛光膜及制备方法 CN202010974639.5 2020-09-16 审查中-实审
187 用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺 CN201910903722.0 2019-09-24 审查中-实审
188 用于铅化学机械抛光的抛光液及抗氧化工艺 CN201910903917.5 2019-09-24 有效专利
189 声磁耦合空化辅助液体喷射抛光装置及使用方法 CN202010948099.3 2020-09-10 审查中-实审
190 一种锑化镓单晶片的抛光方法 CN202010737567.2 2020-07-28 审查中-实审
191 一种抛光液及对碳化硅晶体的抛光方法 CN201811038755.5 2018-09-06 有效专利
192 一种抛光耗材及其制备方法和注压设备 CN201811642927.X 2018-12-29 有效专利
193 用于减少缺陷的抛光组合物及其使用方法 CN201910789528.4 2019-08-26 审查中-实审
194 一种基于剪切增稠抛光的修形装置及方法 CN202011043550.3 2020-09-28 审查中-实审
195 一种用于IC铜阻挡层CMP的抛光组合物及其制备方法 CN202011055094.4 2020-09-30 审查中-实审
196 用于抛光铜的CMP浆料组合物及使用其的抛光方法 CN201780029083.9 2017-02-08 审查中-实审
197 含钴衬底的化学机械抛光(CMP) CN201710459103.8 2017-06-16 审查中-实审
198 一种用于铜抛光的氧化铝抛光液及其制备方法 CN201910456920.7 2019-05-29 审查中-实审
199 一种无水抛光KDP晶体的方法 CN202010992961.0 2020-09-21 审查中-实审
200 适用于蓝宝石抛光的化学机械抛光液 CN201810561828.2 2018-06-04 有效专利
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