1.本发明涉及浸釉机技术领域，具体为一种大件陶瓷产品浸釉机。


背景技术：

2.现实的陶瓷生产活动中，现有的大件陶瓷产品上釉没有自动化设备，大部分工作由人工手拿产品，将产品放入釉浆池内进行浸泡，同时在釉池内翻转，使釉浆附着到产品的所有表面，在浸泡一定时间后，把产品从釉池内取出来，完成上釉过程。在这一过程中，工人需要全程抱着产品，由于大件陶瓷产品平均重量在8kg左右，工人劳动强度较高，同时还要以经验去判断浸泡时间，产品质量与工人技术水平直接相关，不利于规范化生产。此外，大型机械夹具夹取大件陶瓷产品时容易损坏、破坏大件陶瓷产品，产生大量瑕疵品；釉池内的釉浆易沉淀，大大影响大件陶瓷产品的上釉效果；也不能实现自动化清理的功能，因此设计一款大件陶瓷产品浸釉机迫在眉睫。


技术实现要素：

3.(一)解决的技术问题
4.针对现有技术的不足，本发明提供了一种大件陶瓷产品浸釉机，以解决上述背景技术中提出大件陶瓷产品上釉没有自动化设备、大型机械夹具夹取大件陶瓷产品时容易损坏、破坏大件陶瓷产品、釉池内的釉浆易沉淀，大大影响大件陶瓷产品的上釉效果；也不能实现自动化清理的功能的问题。
5.(二)技术方案
6.为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种大件陶瓷产品浸釉机，包括机架、釉池、釉循环系统、升降结构、翻转结构、清理结构、污水处理结构，所述升降结构、釉循环系统、污水处理结构设置于釉池后侧，所述翻转结构包括真空吸管、吸盘平台、减速电机、同步带装置、真空发生器，所述减速电机的转动轴与真空吸管的转动轴通过同步带装置连接，所述吸盘平台固定于真空吸管上，所述真空吸管内部中空，所述真空发生器通过真空吸管与吸盘平台上吸件孔连接，所述釉循环系统与釉池连接，所述釉池和清理结构固定于机架的前侧，所述清理结构包括擦口对位气缸、摆台气缸、擦面对位气缸、高低位气缸、擦面驱动电机，所述摆台气缸的转动轴与擦面对位气缸固定，所述擦面对位气缸与高低位气缸固定，所述擦面驱动电机与高低位气缸固定，所述擦面驱动电机的转动轴与擦面海绵固定，所述擦口对位气缸固定于摆台气缸的下方，所述釉池内部还设有进釉管、过滤池、回釉口，所述釉池通过隔板分隔为进釉区和回釉区，所述进釉管铺设于进釉区底部，且所述进釉管上设有多个进釉口，所述回釉区的上方安装过滤池，靠近所述过滤池的隔板上开设有槽口，所述回釉口设置于回釉区，且所述回釉口和所述进釉管都与釉循环系统连接。
7.进一步优选的，所述污水处理结构包括污水泵、沉淀水池、清洗水槽，所述清洗水槽安装于清理结构的一侧，所述清洗水槽通过管道与沉淀水池连接，所述沉淀水池与污水泵连接。
8.进一步优选的，所述清洗水槽包括存水槽、挤水槽、挤水平台，所述挤水平台上开设有多个槽，所述挤水平台安装在挤水槽上方，所述挤水槽通过管道与沉淀水池连接，所述污水泵通过管道与存水槽连接。
9.进一步优选的，所述升降结构包括步进电机、立柱、升降平台，所述立柱的顶部安装所述步进电机，所述步进电机通过联轴器与滚珠丝杠相连，所述丝杠上安装有升降平台，所述升降平台与翻转结构固定，
10.进一步优选的，所述升降平台通过滑块与立柱上的导轨连接。
11.进一步优选的，所述釉循环系统包括釉泵、釉桶，所述釉泵设置于釉桶内侧，且所述釉泵与进釉管连接，所述釉桶与回釉口连接。
12.进一步优选的，所述擦口对位气缸与擦口海绵连接。
13.进一步优选的，还包括电控箱，所述电控箱设置于机架侧面。
14.进一步优选的，还包括角度位置传感器，所述角度位置传感器安装与真空吸管的转动轴上。
15.进一步优选的，所述釉池侧面还设有排污口。
16.(三)有益效果
17.本发明提供了一种大件陶瓷产品浸釉机，具备以下有益效果：
18.1、本发明的大件陶瓷产品浸釉机解决了现有的大件陶瓷产品上釉没有自动化设备，大部分工作由人工操作的技术问题，从而大大提高了工作效率，节约了人工成本，还解决大型陶瓷产品运输、浸釉难的技术问题。
19.2、本发明的大件陶瓷产品浸釉机，采用真空发生器、真空吸管、吸盘平台来吸住待加工件，由于陶瓷产品易碎，还容易被机械夹具损伤，这样设计的好处是，一方面可以避免大型机械夹具夹持工件时损伤或者破坏工件，另一方面还可以避免采用大型夹具节约设备空间，降低成本，方便浸釉，使大型陶瓷产品浸釉完全。
20.3、本发明还对釉池的结构进行了改进，将进釉管铺设于进釉区底部，釉浆从进釉管上的进釉口进入到釉池后，会使釉浆流动，从而搅拌釉池内釉浆，延缓釉浆沉淀，还在釉池上设置了釉浆液面控制结构，当进釉区内的釉浆达到槽口高度以后，从槽口流入到过滤池内，釉浆会从过滤池上的槽流入到回釉区，大的颗粒物会被过滤池拦截过滤掉，回釉区内的釉浆达到回釉口高度以后，从回釉口流入到釉桶，被釉泵再次循环抽取，使釉浆一直处于流动状态，能够大大延缓釉浆沉淀，提高浸釉效果。
21.4、本发明的大件陶瓷产品浸釉机，采用升降结构、翻转结构、清理结构合理的空间布置排位设计，一方面不仅可以使得结构紧凑，降低结构的占地空间，另一方面还可以将整个大件陶瓷产品浸釉、工件运输过程等缩短，提高工作效率，此外，采用较少数量的气缸和电机就可以实现翻转工件、上下浸釉、清洗等多个工序。
22.5、本发明的大件陶瓷产品浸釉机的步进电机可以根据电控箱内的plc程序带到升降平台完成升降动作。翻转结构安装在升降平台上，翻转结构上安装减速电机，减速电机控制翻转平台进行翻转，翻转平台有的角度位置传感器，电控箱内的plc程序控制翻转平台完成各种角度位置的翻转，从而满足各种不同形状、不同大小的陶瓷产品进行浸釉要求，大大提高了其适用范围。
23.6、本发明的擦面海绵内挤出来的污水，落入挤水槽后，由管道进入沉淀水池，污水
经沉淀水池的沉淀作用，沉淀处理后的水经污水泵再次来到清洗水槽的存水槽内，实现污水沉淀过滤再循环过程。
24.7、本发明的釉池4侧面还设有排污口，通过排污口可以方便清洗釉池。
25.本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
26.图1是本发明的整体结构示意图；
27.图2是本发明另一方向的整体结构示意图；
28.图3是本发明的釉池的结构图；
29.图4是本发明的清理结构的结构图；
30.图5是本发明的清洗水槽的结构图。
31.图中：1、机架；2、釉泵；3、釉桶；4、釉池；5、过滤池；6、清理结构；7、翻转结构；8、升降结构；9、电控箱；10、擦口对位气缸；11、摆台气缸；12、擦面对位气缸；13、高低位气缸；14、擦面驱动电机；15、清洗水槽；16、沉淀水池；17、污水泵；18、回釉口；19、进釉管；20、排污口； 21、擦面海绵；22、擦口海绵；23、挤水平台；24、存水槽；25、立柱；26、减速电机；27、角度位置传感器；28、升降平台；29、吸盘平台；30、真空吸管；31、步进电机；
具体实施方式
32.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
33.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
34.在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
35.请参阅图1-5，本发明提供一种技术方案：一种大件陶瓷产品浸釉机，包括机架1、釉池4、釉循环系统、升降结构8、翻转结构7、清理结构6、污水处理结构、电控箱9，升降结构8、釉循环系统、污水处理结构设置于釉池4 后侧，升降结构8包括步进电机31、立柱25、升降平台28，立柱25的顶部安装步进电机31，步进电机31通过联轴器与滚珠丝杠相连，丝杠上安装有升降平台28，升降平台28与翻转结构7固定，翻转结构7包括真空吸管30、吸盘平台29、减速电机26、同步带装置、真空发生器，减速电机26的转动轴与真空吸管30的转动轴通过同步带装置连接，吸盘平台29固定于真空吸管30上，真空吸管30内部中空，真空发生器通过真
空吸管30与吸盘平台29 上吸件孔连接，釉循环系统与釉池4连接，釉池4和清理结构6固定于机架1 的前侧，清理结构6包括擦口对位气缸10、摆台气缸11、擦面对位气缸12、高低位气缸13、擦面驱动电机14，摆台气缸11的转动轴与擦面对位气缸12 固定，擦面对位气缸12与高低位气缸13固定，擦面驱动电机14与高低位气缸13固定，擦面驱动电机14的转动轴与擦面海绵21固定，擦口对位气缸10 固定于摆台气缸11的下方。升降平台28通过滑块与立柱25上的导轨连接。电控箱9设置于机架1侧面，通过电控箱9来控制釉循环系统、升降结构8、翻转结构7、清理结构6、污水处理结构等工作。擦口对位气缸10与擦口海绵22连接。
36.污水处理结构包括污水泵17、沉淀水池16、清洗水槽15，清洗水槽15 安装于清理结构6的一侧，清洗水槽15通过管道与沉淀水池16连接，沉淀水池16与污水泵17连接。
37.清洗水槽15包括存水槽24、挤水槽、挤水平台23，挤水平台23上开设有多个槽，挤水平台23安装在挤水槽上方，挤水槽通过管道与沉淀水池16 连接，污水泵17通过管道与存水槽24连接。
38.工作原理：首先开启真空发生器，真空发生器通过真空吸管30抽取真空，将放入吸盘平台29上的待加工件(待加工件可以是大件陶瓷产品)紧紧吸住，待加工件放好后，翻转结构工作，减速电机26通过同步带装置带动真空吸管 30转动，从而将与吸盘平台29和待加工件翻转，然后升降结构8工作，步进电机31通过联轴器带动滚珠丝杠转动，从而带动升降平台28在立柱25下降或上升，进而带动翻转结构7、吸盘平台29、待加工件一起下降或上升，可以完成产品浸釉过程中的浸釉或出釉动作。
39.当浸釉完成后，吸盘平台上会残留一部分釉浆，清理结构工作，摆台气缸11启动，摆台气缸11的转动轴顺时针旋转90度，带动与摆台气缸的转动轴固定的擦面对位气缸12顺时针旋转90度，从而带动高低位气缸13、擦面驱动电机14、擦面海绵21顺时针旋转90度，接着擦面对位气缸12活塞伸出，将高低位气缸13、擦面驱动电机14、擦面海绵21移动到吸盘平台上方，然后高低位气缸13活塞伸出，带动擦面驱动电机14、擦面海绵21向下运动，将擦面驱动电机14移动至低位，使擦面海绵21与吸盘平台29接触，然后启动擦面驱动电机14，擦面驱动电机14带动擦面海绵21做圆周运动擦拭吸盘平台上残留的釉浆，将整体吸盘平台清理干净后，高低位气缸13活塞缩回，擦面对位气缸12活塞缩回、驱动电机14来到擦口海绵22的上方，高低位气缸13活塞伸出，使擦面海绵21与擦口海绵22接触，之后擦面驱动电机14 工作，带动擦面海绵21转动，用擦面海绵21将擦口海绵22清理干净。
40.之后高低位气缸13活塞缩回，摆台气缸11逆时针旋转90度，此时擦面对位气缸12活塞伸出方向指向清洗水槽，擦面对位气缸12活塞伸出后，带动高低位气缸13、擦面驱动电机14、擦面海绵21来到清洗水槽上方，之后高低位气缸13活塞伸出，将擦面海绵21伸入清洗水槽的存水槽24内，擦面海绵21吸满水后，高低位气缸13活塞缩回，擦面对位气缸12活塞缩回一定距离，将高低位气缸13、擦面海绵21位于挤水平台23上方，之后高低位气缸13活塞伸出，将擦面海绵21按压在清洗水槽的挤水平台23上，将擦面海绵21内的水挤出，完成擦面海绵21的清洗工作，等待下一次的清洗任务。
41.擦面海绵内挤出来的污水，落入挤水槽后，由管道进入沉淀水池16，污水经沉淀水池的沉淀作用，沉淀处理后的水经污水泵再次来到清洗水槽的存水槽内，实现污水沉淀过滤再循环过程。
42.本发明的另一个实施例中，还将釉池4的结构进行了改进，釉池4内部还设有进釉
管19、过滤池5、回釉口18，釉池4通过隔板分隔为进釉区和回釉区，进釉管19铺设于进釉区底部，且进釉管19上设有多个进釉口，回釉区的上方安装过滤池5，靠近过滤池5的隔板上开设有槽口(此结构为釉浆液面控制结构)，回釉口18设置于回釉区，且回釉口18和进釉管都与釉循环系统连接。
43.釉循环系统包括釉泵2、釉桶3，釉泵2设置于釉桶3内侧，且釉泵2与进釉管连接，釉桶3与回釉口18连接。
44.工作时，釉泵2将釉桶3内的釉浆抽入进釉管19，由于进釉管19铺设于进釉区底部，釉浆从进釉管19上的进釉口进入到釉池4后，会使釉浆流动，从而搅拌釉池内釉浆，延缓釉浆沉淀。
45.当进釉区内的釉浆达到槽口高度以后，从槽口流入到过滤池5内，釉浆会从过滤池5上的槽流入到回釉区，大的颗粒物会被过滤池5拦截过滤掉，回釉区内的釉浆达到回釉口高度以后，从回釉口流入到釉桶3，被釉泵2再次循环抽取，使釉浆一直处于流动状态，延缓釉浆沉淀。
46.本发明的另一个实施例中，还包括角度位置传感器27，角度位置传感器 27安装与真空吸管30的转动轴上。角度位置传感器27将检测到的数据反馈传输给电控箱9，由电控箱9根据检测数据控制釉循环系统、升降结构8、翻转结构7、清理结构6、污水处理结构等工作
47.本发明的另一个实施例中，还包括釉池4侧面还设有排污口20。通过排污口20可以方便清洗釉池4。
48.在本发明的描述中，需要理解的是，指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
49.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
50.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。